新莱应材：公司产品可以用于7nm以下干式刻蚀制程
admin
2021-01-10 12:20:30
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集微网消息 4月1日，新莱应材接受投资者提问时表示，光刻机领域根据结构图纸是有机会可以使用到我司的真空系统产品，我们也一直努力试图跟ASML接触，同时也希望能透过真空技术与国内其他厂家配合制作科研级光刻机并逐步推展到半导体市场。7nm以下的制程是否实现国产替代这个我们不是很了解，但我们的产品可以用于7nm以下的干式刻蚀制程。
关于订单，新莱应材表示，目前公司在手订单充足，由于疫情原因导致复工时间推迟，影响出货。目前，已完全复工复产，努力将疫情的影响降到最低限度，对全年完成较好销售充满信心。目前，海外疫情比较严重的区域暂不是公司外销主力区域，受疫情影响有限。
据悉，新莱应材是国内唯一覆盖真空半导体、生物医药、食品安全三大领域的高洁净应用材料制造商。2019年上半年，新莱应材积极推进创业板公开发行可转换公司债券事宜，以加快推进公司用于半导体行业超高洁净管阀件生产线技改项目。
新莱应材表示，本次募集资金投资项目的建成一方面有利于提升产品附加值，提高企业的盈利能力；另一方面有助于提升公司的品牌价值，建立品牌优势，提升公司半导体行业超高洁净产品的市场占有率和市场认可度。（校对/Lee）
