国产光刻胶技术再突破,南大光电:打破日本、美国市场垄断
admin
2021-01-31 01:17:39
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现如今我国半导体、芯片领域中的发展势头一片大好,并且在美国的“科技霸凌”之下,现如今我国各大科技企业前所未有的团结。现如今在芯片领域中,我国华为不仅仅有中芯国际作为“备胎”,还有这台积电在前方为我国像华为的芯片订单努力。近段时间,在120天缓冲期中的台积电为了能够将华为的订单完成,主动与高通、英伟达、联发科等芯片巨头协商,将他们的芯片订单转移给华为使用。

国产光刻胶技术再突破,南大光电:打破日本、美国市场垄断

而在中芯国际中,现如今中芯国际已经获得了来自国家的巨额注资,在科研资金上已经十分地充足,因此现如今中芯国际能够在芯片领域中大展拳脚了。相信中芯国际在不远的未来能够将我国在芯片领域和半导体领域中的窘境打破,现如今在种种好消息出现后,我国最为令人担心的领域就剩下光刻机了。现如今全世界能够出售光刻机的企业仅有荷兰ASML,但是荷兰ASML受制于美国的技术,因此早前我国订购的紫外光刻机现如今都没能收到。

国产光刻胶技术再突破,南大光电:打破日本、美国市场垄断

虽然在光刻机领域中,我国现如今仍处于探索阶段,但是我国并没有因为落后就放弃,而是更为努力的在光刻机领域中努力。近段时间,我国在国产光刻机领域中的国产光刻胶技术上再次成功突破,我国知名科技企业南大光电在国产ArF光刻胶技术,并且现如今国产ArF光刻胶技术已经成功进入了量产销售阶段,这一消息传来意味着,我国南大光电成功在光刻胶技术上打破日本、美国市场垄断。

国产光刻胶技术再突破,南大光电:打破日本、美国市场垄断

那么光刻胶技术是用来做什么的呢?其实光刻胶技术是一种极其重要的技术,丝毫不夸大的说,美国光刻胶,就算有着最为先进的光刻机都没有用,因为光刻胶是在电子技术微细图形加工中不可或缺的重要材料,并且在芯片制造中还能够将掩膜版图形转移到表面顶层光刻胶中,而在之后的芯片制造中还能够起到保护材料免受刻蚀以及阻挡电离子影响的作用。

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现如今我国虽然在整个光刻机领域上还没有什么话语权,但是我国在光刻机零部件领域中已经进行了极为丰富的研究,相信在不远的未来,光刻机技术也将被我国科研团队征服,并且在我国各大科技企业也将会腾飞于世界舞台之中。

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