该技术已申请专利。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系技术所有人。
1.本实用新型属于晶圆检验领域，特别涉及一种晶圆背检平台。


背景技术：

2.现有技术中，晶圆通过切割机进行多次横向切割、纵向切割可以分为若干小的ic晶粒，晶圆在切割过程中可能出现切割异常导致品质受损，因此需要通过显微镜对晶圆进行检验，其不足之处在于：1.人员检验晶圆切割品质时仅可确认正面，无法检验晶背，晶背异常无法及时被发现，检验时背面品质无法确认，在后段检验发现晶背异常时，影响数量较多；2.检验平台可能会有异物，正面检验时晶圆压到异物，会造成产品损失（ic断裂，飞晶等）。


技术实现要素：

3.本实用新型的目的是提供一种晶圆背检平台，能够针对晶圆进行背面检验，及时发现晶圆背面异常，避免损失扩大；晶圆正面检验时可避免异物对产品造成损伤。
4.本实用新型的目的是这样实现的：一种晶圆背检平台，包括环状支撑体，支撑体中部设置有中心槽，支撑体表面沿周向等间隔设置有若干定位凸起，支撑体上支撑放置有定位铁框，定位铁框外周沿周向等间隔设置有若干定位侧面，各定位侧面与各定位凸起一一对应设置，定位铁框的定位侧面向外对着相应定位凸起设置，定位铁框的内周呈圆形，定位铁框的内周与支撑体内周相对应设置，定位铁框上通过胶膜固定有晶圆，晶圆位于中心槽上方，晶圆外径小于圆形中心槽的内径。
5.本实用新型使用时，将晶圆产品放置在支撑体上，定位铁框下侧贴有胶膜，胶膜表面的中部固定有晶圆，放置时定位铁框需要对应卡入4个定位凸起内，避免产品滑落造成损失。晶圆检测背面时将定位铁框反放，胶膜位于定位铁框的上方；晶圆检测正面时将定位铁框正放，胶膜位于定位铁框的下方。支撑体上晶圆放在显微镜检验平台上进行品质检验。与现有技术相比，本实用新型的有益效果在于：能够针对晶圆进行背面检验，及时发现晶圆背面异常，避免损失扩大；晶圆正面检验时可避免异物对产品造成损伤；治具操作简单方便，可循环使用。
6.作为本实用新型的进一步改进，所述定位凸起设置有四个，定位凸起为螺纹连接在支撑体上的螺栓，支撑体上沿周向间隔设置有若干贯穿孔，各贯穿孔与各定位凸起相错开设置，周向相邻的两个定位凸起之间设置有五个贯穿孔，贯穿孔的孔径为0.95~1cm。贯穿孔可减轻支撑体的重量，螺栓侧面与定位铁框的定位侧面相贴合，起到对定位铁框进行定位的作用。
7.作为本实用新型的进一步改进，所述定位铁框外周设置有四个定位侧面，定位铁框外周位于任意相邻的两个定位侧面之间均设置为弧形部。定位侧面平直设置，便于定位放置支撑体。
8.作为本实用新型的进一步改进，所述支撑体的外径为29.5~30cm，支撑体上相对的
两个定位凸起的间距为28cm，支撑体厚度为1 cm。晶圆被支撑体抬高，防止晶圆与显微镜检验平台接触造成损伤。
9.作为本实用新型的进一步改进，所述晶圆检测背面时，胶膜位于定位铁框的上方；晶圆检测正面时，胶膜位于定位铁框的下方。
附图说明
10.图1为本实用新型的支撑体的俯视图。
11.图2为晶圆放置在支撑体上的俯视图。
12.图3为晶圆的俯视图。
13.图4为晶圆放置在支撑体上的剖视图。
14.图5为图4中a处的放大图。
15.其中，1支撑体，2中心槽，3定位凸起，4定位铁框，4a定位侧面，4b弧形部，5胶膜，6晶圆，7贯穿孔。
具体实施方式
16.如图1-5所示，为一种晶圆背检平台，包括环状支撑体1，支撑体1中部设置有中心槽2，支撑体1表面沿周向等间隔设置有若干定位凸起3，支撑体1上支撑放置有定位铁框4，定位铁框4外周沿周向等间隔设置有若干定位侧面4a，各定位侧面4a与各定位凸起3一一对应设置，定位铁框4的定位侧面4a向外对着相应定位凸起3设置，定位铁框4的内周呈圆形，定位铁框4的内周与支撑体1内周相对应设置，定位铁框4上通过胶膜5固定有晶圆6，晶圆6位于中心槽2上方，晶圆6外径小于圆形中心槽2的内径。
17.定位凸起3设置有四个，定位凸起3为螺纹连接在支撑体1上的螺栓，支撑体1上沿周向间隔设置有若干贯穿孔7，各贯穿孔7与各定位凸起3相错开设置，周向相邻的两个定位凸起3之间设置有五个贯穿孔7，贯穿孔7的孔径为0.95~1cm。贯穿孔7可减轻支撑体1的重量，螺栓侧面与定位铁框4的定位侧面4a相贴合，起到对定位铁框4进行定位的作用。
18.定位铁框4外周设置有四个定位侧面4a，定位铁框4外周位于任意相邻的两个定位侧面4a之间均设置为弧形部4b。定位侧面4a平直设置，便于定位放置支撑体1。
19.支撑体1的外径为29.5~30cm，支撑体1上相对的两个定位凸起3的间距为28cm，支撑体1厚度为1 cm。晶圆6被支撑体1抬高，防止晶圆6与显微镜检验平台接触造成损伤。
20.晶圆6检测背面时，胶膜5位于定位铁框4的上方；晶圆6检测正面时，胶膜5位于定位铁框4的下方。
21.本实用新型使用时，将晶圆6产品放置在支撑体1上，定位铁框4下侧贴有胶膜5，胶膜5表面的中部固定有晶圆6，放置时定位铁框4需要对应卡入4个定位凸起3内，避免产品滑落造成损失。晶圆6检测背面时将定位铁框4反放，胶膜5位于定位铁框4的上方；晶圆6检测正面时将定位铁框4正放，胶膜5位于定位铁框4的下方。支撑体1上晶圆6放在显微镜检验平台上进行品质检验。本实用新型的优点在于：能够针对晶圆6进行背面检验，及时发现晶圆6背面异常，避免损失扩大；晶圆6正面检验时可避免异物对产品造成损伤；治具操作简单方便，可循环使用。


技术特征：
1.一种晶圆背检平台，其特征在于，包括环状支撑体，支撑体中部设置有中心槽，支撑体表面沿周向等间隔设置有若干定位凸起，支撑体上支撑放置有定位铁框，定位铁框外周沿周向等间隔设置有若干定位侧面，各定位侧面与各定位凸起一一对应设置，定位铁框的定位侧面向外对着相应定位凸起设置，定位铁框的内周呈圆形，定位铁框的内周与支撑体内周相对应设置，定位铁框上通过胶膜固定有晶圆，晶圆位于中心槽上方，晶圆外径小于圆形中心槽的内径。2.根据权利要求1所述的一种晶圆背检平台，其特征在于，所述定位凸起设置有四个，定位凸起为螺纹连接在支撑体上的螺栓，支撑体上沿周向间隔设置有若干贯穿孔，各贯穿孔与各定位凸起相错开设置，周向相邻的两个定位凸起之间设置有五个贯穿孔，贯穿孔的孔径为0.95~1cm。3.根据权利要求2所述的一种晶圆背检平台，其特征在于，所述定位铁框外周设置有四个定位侧面，定位铁框外周位于任意相邻的两个定位侧面之间均设置为弧形部。4.根据权利要求1-3任一项所述的一种晶圆背检平台，其特征在于，所述支撑体的外径为29.5~30cm，支撑体上相对的两个定位凸起的间距为28cm，支撑体厚度为1 cm。5.根据权利要求1-3任一项所述的一种晶圆背检平台，其特征在于，所述晶圆检测背面时，胶膜位于定位铁框的上方；晶圆检测正面时，胶膜位于定位铁框的下方。

技术总结
本实用新型公开了晶圆检验领域内的一种晶圆背检平台，包括环状支撑体，支撑体中部设置有中心槽，支撑体表面沿周向等间隔设置有若干定位凸起，支撑体上支撑放置有定位铁框，定位铁框外周沿周向等间隔设置有若干定位侧面，各定位侧面与各定位凸起一一对应设置，定位铁框的定位侧面向外对着相应定位凸起设置，定位铁框的内周呈圆形，定位铁框的内周与支撑体内周相对应设置，定位铁框上通过胶膜固定有晶圆，晶圆位于中心槽上方，晶圆外径小于圆形中心槽的内径。本实用新型能够针对晶圆进行背面检验，及时发现晶圆背面异常，避免损失扩大；晶圆正面检验时可避免异物对产品造成损伤。圆正面检验时可避免异物对产品造成损伤。圆正面检验时可避免异物对产品造成损伤。


技术研发人员：杨爱平 韩慧 韦进 乔春娟 李玉婷
受保护的技术使用者：江苏汇成光电有限公司
技术研发日：2022.05.27
技术公布日：2022/11/28